ASML公司再发力1nm工艺EUV光刻机投入研制功能暴增70%

责任编辑NO。邓安翔02152020-03-24 17:08:03  阅读:6245

ASML公司再发力!1nm工艺EUV光刻机投入研制,功能暴增70%。在美国加大对我国中兴和华为的制裁力度后,自研芯片又在我国商场中掀起了一场浪潮,各大公司纷繁投入了“中国芯”的研制之中,由于只要完成芯片的自主研制,才干真实不受制于人,但是,华为等公司研制芯片,也只是局限于规划上,在芯片的出产上,华为仍是需求寻求台积电进行代工,这是怎么回事呢?实际上,是由于我国无法制作先进的光刻机。

说起光刻机,就不得不提起一个公司,它便是荷兰的ASML公司,到2020年,全球光刻机商场仍然被荷兰ASML这一家公司独占,材料显现,现在90%的光刻机都来自于ASML,别的,现在最先进的高端EUV光刻机也由ASML公司独家把握,可以说在光刻机的出产上,ASML公司占有着肯定的优势。

近年来,芯片的制程工艺一直在不断的进步,从开端的28nm工艺,到14nm工艺,再到10nm、7nm工艺,乃至5nm工艺,这实际上都归功于光刻机的进步。现在,ASML公司还在加速光刻机的开发进程,据外媒报导,ASML公司现在正方案研制最新一代的EUV光刻机,而且这代光刻机将有望在2022年问世。

现在,ASML公司首要出口的光刻机型号为NXE:3400C,这款光刻机选用了现在最先进的模块化规划。由于旧版光刻机的结构非常复杂,零件数目多达10万个,保护起来非常困难,而选用模块化规划的光刻机保护起来非常便利,不易损坏,还能一起支撑7nm和5nm这两种先进的制程工艺,现在,三星和台积电等芯片出产商现已老练把握7nm芯片工艺,市面上最新的骁龙865、麒麟990均选用7nm工艺,别的据台积电负责人介绍,台积电将在下个月开端出产最先进的5nm芯片,这个好消息让半导体职业完全欢腾了。

但是,ASML公司或许觉得5nm工艺还不行,由于更高的工艺代表着更高的功能和更低的功耗,简略的来说,便是能耗比的进步。据相关人员泄漏,这一次ASML公司决议投入研制最新一代的EUV光刻机,也便是EXE:5000系列。卡尔蔡司、IMEC比利时微电子等公司都将参加到这款光刻机的研制中,据泄漏,其功能比较上代光刻机将进步70%左右,更令人兴奋的是,这次的光刻机将有望打破2nm制程工艺,完成更先进的1nm工艺。

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